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193nm DUV 半导体光刻透镜系统

光学核心参数 (Optical Metrics)

  • 工作波长193 nm
  • 数值孔径 (NA)1.35
  • 分辨率≤ 38 nm
  • 焦深 (DOF)80 nm
193nm DUV Lithography Lens System

193nm DUV 半导体光刻透镜系统

专为先进制程光刻机设计的深紫外透镜组,集成了压电陶瓷超精密变形控制与纳米级电波前补偿器

闭环电学控制参数 (Electrical Control Params)

压电致动器驱动电压0 - 150 V

功能说明: 控制透镜微位移以校正波前畸变

温控系统加热器功率24 W/区域

功能说明: 多通道闭环精密温度调谐

电容式位移传感器反馈频率10 kHz

功能说明: 纳米级位置实时监测

静态功耗≤ 50 W

功能说明: 热源最小化设计,防止光学畸变

半导体超高倍率测量物镜

光学核心参数 (Optical Metrics)

  • 放大倍率150 X
  • 工作距离 (WD)12.5 mm
  • 数值孔径 (NA)0.95
  • 畸变≤ 0.05 %
Super High-Mag Metrology Objective

半导体超高倍率测量物镜

用于晶圆宏观缺陷与线宽关键尺寸测量,具备超长工作距离与近无限畸变校正功能

闭环电学控制参数 (Electrical Control Params)

自动对焦线圈电流0 - 500 mA

功能说明: 高速高灵敏音圈电机驱动

传感器模拟输出0 - 10 V

功能说明: 高抗干扰差分信号输出

压电物镜定位器电压-20 - 120 V

功能说明: Z轴超精密闭环定位

对焦电机功耗12 W

功能说明: 轻量化驱动以抑制热源传导

大口径精密激光干涉仪参考镜

光学核心参数 (Optical Metrics)

  • 有效通光口径300 mm
  • 波前精度λ/50 (Peak-to-Valley)
  • 参考面反射率4.0 %
  • 设计焦距1200 mm
Large-Aperture Interferometer Lens

大口径精密激光干涉仪参考镜

光学表面粗糙度测量的基准透镜,内置极低热漂移电路与高灵敏温度阵列传感器

闭环电学控制参数 (Electrical Control Params)

温度传感器供电5 V

功能说明: 超精密防噪声传感器基准电平

测温通道数16 Ch

功能说明: 透镜表面温度分布监控

通信总线速率1.0 Mbps

功能说明: CAN-FD 闭环抗噪总线接口

校准线圈驱动≤ 2.0 A

功能说明: 用于电磁自校准消磁控制